三星已完成下一代 5nm EUV 节点的开发
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三星刚刚宣布，已成功完成其下一代 5nm EUV 制造工艺的开发，并准备发运样品。 三星声称，5nm 节点的逻辑面积效率提高了 25%，功耗降低了 20%，或者在相同功耗下性能提高了约 10%。5nm 节点基于相同的 EUV 光刻工艺，将在三星的华城代工厂生产。 顺便说一句，该代工厂将在今年下半年扩大产能，并在 2020 年初提高产量。 现在下结论还为时过早，但考虑到 7nm 工艺的路线图，该公司很可能会在 2020 年开始大规模生产新芯片，正好赶上下一代 Galaxy S 系列的推出。 除了 5nm 工艺，三星还在与部分客户合作开发基于 EUV 的 6nm 芯片。我们猜测，该工艺的成本低于 5nm 工艺，适合中端到中高端产品。 来源 |
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